到货！Astemo 安斯泰莫 Aera FC-R7800 MFC 半导体金属密封气体流量控制

到货！Astemo 安斯泰莫 Aera FC-R7800 MFC 半导体金属密封气体流量控制

半导体制造的刻蚀、薄膜沉积工艺，对工艺气体的泄漏、杂质污染、流量稳定性要求高。Astemo 安斯泰莫 Aera FC-R7800 金属密封质量流量控制器（MFC），是半导体行业成熟的金属密封型 MFC，可应对高纯、腐蚀性特种气体，保障晶圆制程一致性，日本原装现货供应。

✅产品核心参数

- 型号：FC-R7800

- 产品类型：金属密封模拟式质量流量控制器 MFC

- 满量程：10sccm～200slm，多规格可选

- 精度：≤±1% FS；重复性≤±0.2% FS

- 响应时间：小量程规格＜1 秒，快速达到设定流量

- 泄漏率：He 检漏≤1×10⁻¹⁰ atm・cc/sec

- 阀体润湿材质：316L 不锈钢，电解抛光处理

- 气路接口：VCR 接口，兼容 Swagelok

- 阀门类型：常闭 N/C/ 常开 N/O 电磁阀可选

- 工作温度：5~45℃

✅产品核心优势

1. 全金属密封，低泄漏

无橡胶密封圈，不存在橡胶老化、气体渗透、有机物析出问题。氦检漏率指标好，适配高洁净工艺，避免微量泄漏影响薄膜品质，适合卤素等腐蚀性特种气体。

2. 耐腐蚀电解抛光流道

气体接触内壁采用电解抛光处理，表面光洁度高，减少气体吸附、颗粒产生，降低晶圆颗粒污染风险，是刻蚀、ALD 等严苛制程优选。

3. 高速流量响应，工艺稳定

小量程版本流量稳定时间＜1s，批次间流量波动小，有效提升薄膜厚度均匀性与良率。设备长期运行零点漂移小，一年内漂移＜0.5% FS，长期稳定性突出。

4. 通用性强，替换便捷

支持行业标准模拟信号，电气接口、安装尺寸标准化，可直接替换产线原有 Aera 及同规格 MFC，设备改造、备件更换快速，缩短停机时间。全球装机量大，年返修率低于 0.5%，现场可靠性经过大量产验证。

适用场景

半导体 CVD、PVD、干法刻蚀、ALD、离子注入、热氧化扩散；光伏镀膜、光学薄膜、燃料电池等真空高纯气体工艺，尤其适合 Cl₂、HBr 等腐蚀性工艺气体控制。

✅同系列选型对比

- FC-R7800：金属密封，高纯 / 腐蚀气体、高洁净半导体核心制程

- FC-R7700：橡胶密封款，仅适合 N₂、Ar 等惰性气体，成本优，用于吹扫、保护气等常规工艺

- HG200：高速脉冲 MFC，专门用于 ALD 快速脉冲供气场景