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更新时间:2026-09-21
浏览次数:7新品到货!Aera FC-R7700 与 FC-R7800 半导体 MFC 质量流量控制器

半导体产线气体管路选型时,很多工艺工程师会对比 Astemo 安斯泰莫 Aera 的 FC-R7700 与 FC-R7800 两款 MFC。二者同属 Aera 经典 R 系列质量流量控制器,但密封结构、耐受气体、洁净等级与适用制程差异很大,下面一次性理清选型逻辑。
✅基础参数对比
Aera FC-R7700
- 密封形式:橡胶密封
- 流量量程:10sccm~200slm 多档可选
- 精度:≤±1% FS,重复性≤±0.2% FS
- 润湿材质:316L 不锈钢,普通抛光
- 适配气体:N₂、Ar 等惰性气体,非腐蚀性工艺气体
- 接口:常规卡套接口
- 特点:性价比高,安装维护简单,橡胶密封结构,成本友好
Aera FC-R7800
- 密封形式:全金属密封
- 流量量程:10sccm~200slm 多档可选
- 精度:≤±1% FS,重复性≤±0.2% FS
- 润湿材质:316L 不锈钢电解抛光 EP
- 泄漏率:He 检漏≤1×10⁻¹⁰ atm・cc/sec
- 适配气体:惰性气体、卤素类等腐蚀性特种气体
- 接口:VCR 金属密封接口
- 特点:无橡胶件,无有机物析出,低漏率,耐高温,高洁净等级
✅核心差异
1. 密封结构
FC-R7700 采用橡胶密封圈,结构简单、价格更实惠。但橡胶件存在老化风险,不能用于 Cl₂、HBr 等强腐蚀气体,长期高温环境下还可能析出有机物,污染晶圆。
FC-R7800 为全金属密封,没有橡胶密封圈,不存在老化、气体渗透、有机物析出问题,氦检泄漏指标比较好,适配腐蚀性气体与高洁净制程。
2. 流道洁净度与颗粒控制
FC-R7800 内部流道电解抛光 EP,内壁光洁度高,减少气体吸附、颗粒生成,适合刻蚀、ALD 等对颗粒管控严苛的核心制程。
FC-R7700 为普通抛光,满足吹扫、保护气等对洁净度要求中等的辅助工艺。
3. 适用工况与使用时间
FC-R7700 多用于辅助吹扫、载气、保护气等常规惰性气体回路,需要定期检修更换密封圈。
FC-R7800 用于核心制程,腐蚀性气体、高纯气体工艺,长期连续运行稳定性强,维护周期更长。
4. 成本定位
FC-R7700:量产辅助工艺主力,平衡性能与备件采购成本;
FC-R7800:高核心制程专用,采购单价高,用于对泄漏、杂质零容忍场景。