新品到货！ULVAC爱发科 Qulee RGM2‑201F：腐蚀性工艺专用，带差分排气

新品到货！ULVAC爱发科 Qulee RGM2‑201F：腐蚀性工艺专用，带差分排气

在半导体制造中，CVD 化学气相沉积、ALD 原子层沉积、干法刻蚀会大量使用氟、氯类强腐蚀性反应气体，工艺压力可达几百 Pa。普通 RGA 或者 CGM2 紧凑型质谱，无法耐受高压与卤素腐蚀，灯丝、离子源极易被快速侵蚀烧毁，无法稳定在线监测工艺气体组分。

日本爱发科 ULVAC Qulee RGM2‑201F 反应式过程气体监测仪，是专门面向反应性工艺开发、内置一体化差分排气系统的四极杆质谱 RGA，还斩获 2023 年度日本真空工业协会真空元器件大奖，是刻蚀、CVD、ALD 产线的标配在线监测设备。

一、核心工作原理：差分排气隔离腐蚀气体

RGM2‑201F 搭载完整集成式差分排气单元。工艺腔体的高压腐蚀性气体，先经过限流小孔，由内置分子泵组逐级降压，把质谱四极杆分析腔维持在高真空状态，把腐蚀性工艺气体和质谱核心部件物理隔离开。

搭配爱发科带磁铁封闭式离子源 Closed Ion Source，降低气体热解离，法拉第杯即可高灵敏度检测，减少电子倍增管依赖，提升整机在腐蚀性工况下的使用时间。

简单理解：差分排气相当于一道防护屏障，不让高压腐蚀性气体直接冲击灯丝、四极杆电极，这也是和 CGM2 最本质的区别。

二、核心产品亮点

一体化差分排气，整机紧凑小巧

排气单元、控制系统高度集成，支持水平、垂直两种安装方式，占地面积小，适配产线机柜有限空间，不用额外搭建庞大外置差分泵站。可承受工艺压力500Pa，覆盖 CVD、ALD、干法刻蚀主流工艺压力区间。

双灯丝设计，减少产线停机损失

内置两根铱‑氧化钇灯丝，一根灯丝熔断，设备可不停产切换备用灯丝继续测量，避免因为耗材损坏打断量产工艺，大幅提升产线稼动率。

维护效率大幅提升

正交进样结构，灯丝套件单人即可更换，维护时间从传统 120 分钟缩短至 10 分钟，降低设备维护工时成本。机身自带触控显示屏，脱离电脑也可查看实时状态；搭配 QCS 软件，以太网通讯，支持多台设备集中管理。

快速响应，适配 ALD 脉冲工艺

缩短腔体到离子源的采样管路距离，气体响应速度快，可跟踪 ALD 工艺快速交替脉冲进气，用于刻蚀终点判断、腔体清洗终点监控、工艺副产物分析、泄漏与水汽杂质预警。

设备保护逻辑

离子源、检测器具备预防性保护功能，压力异常自动保护，降低腐蚀工况下部件损坏风险。