FUJI‑TECHNO 富士技术工业 无脉动柱塞计量泵 8/12 寸晶圆狭缝涂布的性能

FUJI‑TECHNO 富士技术工业 无脉动柱塞计量泵  8/12 寸晶圆狭缝涂布的性能

> 工艺：Slot‑Die 狭缝涂布，用于晶圆 PI 聚酰亚胺配向膜、光刻胶、BARC/ARC 抗反射涂层，替代传统旋涂，适合厚膜、大尺寸晶圆量产。

一、介质与工艺工况

1. 介质

- PI 聚酰亚胺（PAA 聚酰胺酸溶液）：粘度 2000‑8000 mPa・s，强有机溶剂体系，易产生气泡，严禁金属离子析出

- 光刻胶、ARC/BARC 抗反射涂层液：粘度 50‑5000 mPa・s，PGMEA、环己酮溶剂体系

2. 流量区间

- 实验室小试单片 8 寸：15‑30 mL/min

- 中试 8 寸量产：20‑50 mL/min

- 12 寸宽幅量产：60‑100 mL/min

3. 出口压力：4‑7 MPa，过滤器存在背压波动；24h 连续无尘车间量产

4. 湿膜厚度：几 μm～几十 μm；膜厚均匀性直接决定后续光刻、固化良率

二、推荐型号分工（HYM 系列三柱塞无脉动泵）

1. HYM‑03｜实验室、小试、单片 8 寸涂布

流量 15.3‑54.3 mL/min，压力 200MPa；适合研发机台、小批量打样；PEEK 泵头，无金属析出。

2. HYM‑06｜8 寸中试、小量产线（主流选用）

流量 30.6‑108.6 mL/min；适配 8 寸连续狭缝模头；可双泵联动，PI 原液 + 稀释剂在线配比；伺服驱动，4‑20mA/RS485 对接机台 PLC。

3. HYM‑08｜12 寸宽幅量产线

流量 217.2 mL/min；供给 12 寸整幅狭缝模头，24h 不间断生产；宽幅晶圆优先选此型号。

> 泵头材质硬性要求：半导体狭缝涂布优先 PEEK/PTFE 非金属泵头；禁止普通不锈钢直接接触 PI / 光刻胶，避免金属离子污染晶圆；特殊工况可选电解抛光 SUS316L、哈氏合金 HC‑276。

三、原有工艺痛点（普通齿轮泵 / 隔膜泵）

1. 泵固有脉动，转化为模头压力周期性震荡，晶圆表面出现波浪条纹、Mura 明暗斑块，整片膜厚离散大。

2. 过滤器逐步堵塞，背压变化，齿轮泵内泄变大，流量漂移，需要频繁调机。

3. 高粘度 PI 吸料困难，出现丢量、断涂；输送过程卷入微气泡，固化后形成针孔缺陷。

4. 需要配置大体积脉动缓冲罐，管路复杂，无尘车间占用空间大，罐内容易积存气泡。