日本 PROTEC 普罗泰克 半导体微纳加工光刻对准与后处理设备技术解析

日本 PROTEC 普罗泰克 半导体微纳加工光刻对准与后处理设备技术解析

1、品牌简介

PROTEC 成立于 1977 年，总部位于日本东京，专注半导体、FPD 平板显示领域光学精密工艺设备研发制造。核心技术集合自主光学镜头、图像识别算法、微米级运动平台，产品覆盖手动半自动全自动多档位，兼顾实验室研发小批量试样与中试生产，在厚胶光刻、MEMS 器件、PI 绝缘树脂图形化工艺拥有大量实际案例。

2、核心产品线与设备原理

2.1 掩模对准曝光系统

包含手动、半自动、全自动掩模对准机。依靠 CCD 图像识别标记，完成光掩模版与硅片基板高精度对位，再进行 UV 曝光。

- 核心指标：对准精度可达亚微米级别；支持硅片、玻璃基板、化合物 SiC/GaN 基板；适配厚膜光刻胶、PI 感光树脂。

- 适用：MEMS 器件、化合物半导体、绝缘层图形化，实验室配方工艺开发。

2.2 SD 系列自动显影机（SD‑2500A 为代表）

喷淋式自动显影设备，完成曝光后晶圆的显影、冲洗、旋转干燥一体化作业。

1. 喷淋管路均匀供给显影药液，温度闭环控制，保证显影速率批次一致；

2. 完成显影后自动 DI 水冲洗，去除残留显影液；

3. 高速旋转干燥，避免水渍残留造成图形缺陷。

> 解决人工浸泡显影带来的药液温度波动、显影时间不一致、图形线宽漂移问题。

2.3 SVP 系列 UV 辅助曝光装置（SVP‑1500A）

显影完成后的 UV 后处理设备，365nm UV‑LED 阵列照射晶圆表面。

- 作用：对光刻胶、PI 树脂图形进行辅助光固化，提升图案侧壁稳定性，增强抗刻蚀能力，改善线宽均匀性；

- 内置照度传感器闭环反馈，补偿光源衰减，保证每一批次曝光能量稳定；配备冷却模块，抑制晶圆受热变形。

2.4 精密对位观测显微镜

长工作距离、大景深光学系统，无畸变成像。用于掩模版检查、晶圆图形观测、封装芯片对位观察，不用接触样品，即可完成微米级缺陷观察测量。