MKS HA-MFV:半导体制造中的高精度流量验证技术解析

MKS HA-MFV:半导体制造中的高精度流量验证技术解析

MKS HA-MFV是专为半导体制造场景设计的高精度原位质量流量验证仪，核心解决传统流量校验方式精度不足、受外部环境干扰大的痛点，是晶圆间、腔室间、机台间工艺一致性的核心设备。

核心技术优势 ✅

‌高测量精度‌：测量精度可达‌读数的1.0%‌，远优于传统上升率类设备和工艺腔室上升率法的测量表现，可直接使用实际工艺气体完成MFC流量校验，数据可信度大幅提升。

‌抗外部容积干扰‌：不受MFC到HA-MFV之间的外部容积变化影响，多台同工艺机台之间的测量数据可精准匹配，解决不同机台间工艺参数偏差的问题，保障机台间工艺一致性。

‌宽量程覆盖‌：测量范围覆盖‌5~3000 sccm（氮气等效）‌，可适配半导体刻蚀、沉积、扩散等绝大多数工艺场景的流量校验需求。

‌多协议适配‌：支持EtherCAT®和DeviceNet™两种主流工业通讯协议，可直接对接半导体产线现有自动化控制系统，无需额外改造机台硬件。

半导体产线核心应用价值

原位MFC流量评估，无需将MFC从工艺机台拆卸送检，大幅减少非计划停机时间，避免拆卸重装带来的密封泄漏风险。

支持多气体面板共用设备，降低产线批量部署的整体实施成本，提升产线MFC校准效率。

保障晶圆间、腔室间、机台间的工艺参数高度一致，直接助力先进制程下的良率提升，是3nm及以下制程流量管控的核心配套设备。