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更新时间:2026-09-07
浏览次数:6到货!KOKUSAN 科库森 SPD‑180 与 H840SA 晶圆甩干机 半导体湿法制程刚需

半导体湿法制程刚需:KOKUSAN 科库森 SPD‑180 与 H840SA 晶圆甩干机
在半导体芯片制造流程中,湿法清洗之后的晶圆干燥是决定良率的关键工序。传统热风烘烤极易造成晶圆翘曲、薄膜损伤、水印颗粒残留,离心甩干凭借低温、洁净、高效的优势,成为前道、后道制程不能缺的工艺设备。
来自日本 KOKUSAN 科库森(国产遠心機株式会社)的SPD‑180 自转式、H840SA 对向式两款离心干燥机,在国内半导体、第三代半导体、光学元器件领域拥有大量落地实绩,适配百级无尘车间,是日系成熟主流晶圆甩干设备。
一、整机共同工艺特性
两款机型均面向半导体超净场景开发,底层洁净设计保持一致:
适配 Class100 百级无尘环境,腔体进风配置 ULPA 高效过滤器,隔绝外界粉尘微粒进入腔体。
标配离子除静电单元,避免高速旋转产生静电,避免静电吸附微颗粒,保护晶圆线路不被静电损伤。
主轴隔离密封结构,轴承润滑油脂隔离在腔体外部,杜绝油污碎屑造成二次污染,满足芯片高洁净管控标准。
低温离心干燥逻辑,依靠离心力剥离水分 + 洁净氮气 / 空气吹扫完成脱水,无需高温加热,规避薄片翘曲、镀层、光刻胶受热损坏问题,解决水印、水斑等常见不良。
PLC 变频控制系统,搭载失衡保护、门盖联锁,保障无尘车间连续生产安全。
二、SPD‑180 自转式离心干燥机(单花篮同轴旋转)
SPD‑180 采用单花篮整体同轴自转结构,整套载片架跟随主轴高速旋转,离心力集中,针对微沟槽、盲孔、高深孔结构工件脱水能力突出。
核心参数要点
转速:5 英寸及以下高 3500rpm;6‑8 英寸 3000rpm
处理能力:8 英寸晶圆 ×25 片,单次 1 个花篮
操作:触控屏操作,可存储5 套工艺配方,自定义多段加减速曲线
气源:0.3Mpa 驱动气压;电源 AC200V 三相
整机重量:110kg
机型优势
✅高离心力输出,针对带深槽、通孔、微结构硅片、碳化硅、氮化镓,真正无水痕干燥,解决边缘、微孔残水难题。
✅触控可编程,工艺配方存储复现,适配研发、中试线频繁切换材料。
✅风道密闭性比较好,干燥腔体洁净度可控,多用于光刻后、刻蚀后严苛关键工序。
✅整机纵深占地小,适合工位紧凑的无尘室布局。
适用场景
研发中试产线、8 英寸晶圆、第三代半导体基片、带有微结构 / 深沟槽工件、对无水痕良率要求高的工艺段。