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更新时间:2026-09-01
浏览次数:7新品到货!紫外光表面处理机 艾泰克 AITEC 干式工艺 内置短波紫外灯管

一、设备外观与硬件构成
整机为台式腔体结构,分为样品处理腔体与电控操作面板两大模块。
1. 处理腔体:带密封舱门,观察视窗,样品放置舱内完成光化学反应;舱体带安全警示标识,舱门锁止,工作过程禁止开门。
2. 右侧电控面板
- 绿色 POWER:总电源开关
- 2 块数显仪表:分别管控处理时间 TIMER、腔体温度 TEMPERATURE
- START 启动按键、STOP 停止按键
- 拨码切换开关:用于模式切换、灯源控制、功能选择。
二、核心工作原理
设备内置短波紫外灯管,输出185nm +254nm 双波段紫外线:
185nm 紫外光照射舱内氧气生成臭氧;254nm 紫外光打断工件表面有机污染物分子链;臭氧协同氧化,将油污、脱模剂、有机残留分解挥发,干式无药液清洗;同时改变材料表面分子官能团,表面活化,提升粘接、点胶、镀膜附着力。
> 区别等离子清洗:本设备是紫外臭氧光化学处理,不需要真空腔体,不需要通入工艺气体;属于常压干式表面处理。
三、核心产品优势
1. 干式工艺,无化学药水
不需要溶剂、清洗剂,无废液处置,样品不会被液体浸润,适合怕水、怕溶剂的基材。
2. 温和表面改性
无等离子轰击,不会对基材产生物理刻蚀损伤,塑料、薄膜、光学镜片脆弱样品友好。
3. 台式小型设备,上手简单
设置时间、温度,放入样品关门启动即可;适合研发实验室、小批量试样处理。
4. 处理效果:去除有机污染物;提升表面亲水性;大幅提高粘接、点胶、印刷、镀膜结合力。
四、典型应用行业
半导体 & 电子行业
- 芯片、载片、基板表面有机残留去除,提升引线键合、底部填充胶粘接强度
- FPC、PI 薄膜表面活化,改善 UV 胶粘接性能
- 光学元件、透镜去除脱模剂、油脂污染,镀膜前预处理
高分子材料
- PP、PE、PTFE 难粘塑料表面活化,解决点胶、粘接脱粘问题
- 硅胶、橡胶件表面改性,提升印刷、粘接附着力
精密光学、科研实验室
- 石英、玻璃基底清洗,减少纳米级有机污染
- 材料表面改性研究,试样预处理