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更新时间:2026-11-09
浏览次数:6日本新基 THINKY ARV-310P 真空行星脱泡机,半导体封装胶微泡去除方案

在半导体 ODF 封装、光学胶、高透光硅胶工艺中,肉眼不可见的亚微米气泡,会直接造成封装失效、光学瑕疵,普通大气搅拌脱泡无法满足要求。日本新基 THINKY ARV-310P,真空型公转自转搅拌脱泡机,专门针对微泡管控严苛的先进材料开发。
ARV-310P 在公自转搅拌基础上集成真空减压系统,在搅拌分散的同时抽真空,在负压环境下把藏在浆料内部微小气泡析出、排出,亚微米级别脱泡。机型搭载重量 310g,标配 300ml 搅拌杯,适合洁净室研发和小批量生产,支持 RS232C 通讯,配方、转速、真空压力、运行时间每秒记录,满足严苛制程追溯。
真空 + 公自转的组合解决了行业一大痛点:单纯大气搅拌只能排出大泡,微泡被高粘度浆料束缚很难上浮;真空降低气泡内部压力,让微小气泡膨胀、合并,再依靠离心力脱离浆料,大幅降低残泡率。设备可以设置分段逻辑:先常压分散粉体,再开启真空脱泡,避免高速搅拌在真空下物料飞溅溢出。
很多光学、半导体材料企业对比之后,选择 ARV-310P,除了脱泡能力,还有洁净适配性。设备本体可以导入千级洁净车间,表面容易擦拭清洁,没有容易积料的搅拌结构;搭配专用针筒适配器,可以搅拌并脱泡针筒内预灌封浆料,灌装后直接使用,减少物料转移污染。
典型应用:显示面板光学胶、半导体 ODF 底部填充胶、高折射率荧光硅胶、医疗光学树脂、精密电子封装胶。很多头部封装材料供应商、光学材料研发中心,用 ARV-310P 开发配方,作为工艺定型基准设备。
选型对比:ARE 系列无真空,预算低、气泡要求一般选用;ARV-310P 真空款,主打微泡管控;如果需要更大处理量,选择 ARV-3000TWIN;如果只做微量样品,看 ARM 小型入门机型。真空机组需要定期维护,油水分离器、真空泵油按照周期更换,不然会污染腔体。
工艺提示:真空度不是越高越好,部分低沸点树脂、稀释剂在高真空下容易挥发,需要根据物料特性设定真空阈值;升温敏感材料,可以选配物料温度监测套件,实时监控搅拌生热。
综合来看,THINKY ARV-310P 是电子、光学材料的真空搅拌脱泡机型,把分散、真空脱泡、数据追溯集成一体,对残泡控制有高要求的半导体、光学材料项目,这款型号是优先评估方案。