ULVAC CRYO-U12HSP 低温冷凝泵｜半导体高真空，薄膜制程高洁净方案

半导体、FPD、光学镀膜对真空洁净度要求严苛，无油低温冷凝泵是获取无碳氢污染高真空的核心设备。ULVAC 爱发科 CRYO-U12HSP 低温泵，升级款 GM 制冷机型，氩气抽速达到 3400L/s，氢气抽速对比基础款提升约 1.5 倍，是 300mm 晶圆设备、大面积基板溅射系统热门配置。

CRYO-U12HSP 采用两级制冷结构，冷板吸附气体分子，无油，避免油蒸汽污染薄膜，满足氮化膜、金属靶材、介质膜等高洁净镀膜需求。设计寿命比较好，标准维护间隔可达 16000 小时，减少停机保养频次，适配连续量产产线。

法兰规格 UVG-300，兼容主流真空腔体接口，配套 C30VRT 制冷机组，冷却周期稳定，控温可靠。很多面板、功率器件、光学镜头镀膜产线选用该型号，替换传统油泵 + 罗茨机组，降低膜层针孔、杂质缺陷，提升良率。

ULVAC 低温泵、溅射台、真空计、检漏仪形成完整真空制程方案，CRYO-U12HSP 主打大负载、高洁净的高真空场景，是薄膜工艺不可替代的真空核心部件。