SEN日森台面清洁翻新机PM2001N-3的应用

SEN日森台面清洁翻新机PM2001N-3的应用

名称：台面清洁翻新机

模型：PM2001N-3

概述：185纳米和254纳米的光能用于去除纳米级有机污垢

用途：提高树脂表面的润湿性通过胶粘剂、涂料和涂层改善树脂材料的附着力·各种基材材料的预处理

/金属和玻璃等表面的清洁与改性·光刻剂灰烬和镀层的预处理

特色：柴外线处理易于进行。·照射尺寸为200x200毫米，不仅可用于科研，也能作为小型生产机使用。桌子旋转以便均匀照射。

名称：紫外线清洁整形器

概述：该装置通过185nm或254nm紫外线去除工件表面的污垢提高树脂表面的润湿性

·通过胶粘剂、涂料和涂层改善树脂材料的附着力

用途：各种基材材料的预处理/金属和玻璃等表面的清洁与改性·光刻剂灰烬和镀层的预处理